직사각형 지그 챔버의 단면은 표준 직사각형으로, 지그 운동 방향을 따라 폭과 높이가 일정하게 유지되며 내부 공간은 "직관형" 구조를呈합니다. 이 구조는 챔버 내 광석 분포의 균일성이 우수하지만, 단일 챔버의 유효 분리 용적이 고정되어 있어 공간 최적화를 통해 처리량을 향상시키기 어렵습니다.
반면, 사다리꼴 지그 챔버의 단면은 사다리꼴 형태로, 일반적으로 광석 이동 방향(급광단에서 배광단으로)으로 폭이 점차 넓어지거나 높이가 점차 높아져 "확장형" 공간을 형성합니다. 이러한 설계는 분리 과정에서 광석의 막힘 현상을 줄일 수 있습니다. 즉, 급광단의 좁은 공간은 초기 광석 분포의 균일성을 보장하고, 배광단의 넓은 공간은 광석分层 (층분리) 후 "밀도 기반 분리"에 더 큰 완충 공간을 제공합니다. 동일한 장비 크기 하에서 사다리꼴 지그 챔버의 실제 처리량은 직사각형보다 15%-30% 높아 대규모 조선(粗選) 또는 중간 선별 작업에 더 적합합니다.
지그 분리의 핵심은 "수류 맥동 + 밀도分层"이며, 지그 챔버의 형태는 수류 분포와 광석受力 (受力) 상태에 직접적인 영향을 미칩니다. 직사각형 지그 챔버는 내부 공간이 균일하기 때문에 수류 맥동 시 "평행 밀어내기형" 유동장을 형성하기 쉽고, 챔버 벽 근처와 중앙의 수류 속도 차이가 작습니다. 하지만 광석의 수직 방향分层 동력은 주로 수류의 상하 맥동에 의존하기 때문에分层 속도가 느릴 뿐만 아니라, 고밀도 광물이 "벽면 부착 체류" 현상으로 인해 분리 순도가 저하되는 문제가 발생하기 쉽습니다.
사다리꼴 지그 챔버는 공간이 점진적으로 변화하기 때문에, 수류가 좁은 단에서 넓은 단으로 이동할 때 속도가 점차 감소하며 "감속형" 유동장을 형성합니다. 구체적으로, 급광단의 좁은 공간에서는 수류 속도가 높아 광석을 빠르게 부유시킬 수 있고, 배광단의 넓은 공간에서는 수류 속도가 느려 광석이 밀도에 따라 충분히 침강할 수 있습니다. 즉, 고밀도 광물(예: 금속 광석)은 챔버 바닥으로 빠르게 가라앉고, 저밀도 광물(예: 맥석)은 수류와 함께 떠오르는 것입니다. 이러한 특징으로 인해 사다리꼴 지그 챔버의分层 정밀도는 직사각형보다 20%-25% 높아 밀도 차이가 작은 광물 분리에 특히 적합합니다.
지그기의 배광 안정성은 분리 지표에 직접적인 영향을 미칩니다. 직사각형 지그 챔버는 폭이 고정되어 있기 때문에 배광구가 챔버 폭과 완전히 일치해야 합니다. 만약 광석 입도에 변동이 발생(예: 갑자기 큰 덩어리 광석이混入)하면 배광구 막힘 또는 "조립 손실"(고밀도 조립 광물이 광미와 함께 배출되는 현상)이 발생하기 쉽습니다. 또한, 배광 시 챔버 바닥에서 광석의 "밀어내기 거리"가 고정되어 있어 충분히分层되지 않은 광석이 강제로 배출되어 회수율이 저하될 수 있습니다.
사다리꼴 지그 챔버는 배광단 폭이 더 넓기 때문에 배광구를 "넓이 조절형"으로 설계할 수 있습니다. 이는 입도가 변동하는 광석을 수용할 수 있을 뿐만 아니라, 배광 속도를 조절하여 챔버 바닥에서 광석이更长한 "이차分层" 거리를 확보하도록 할 수 있습니다. 동시에, 사다리꼴 챔버 바닥의 경사각(일반적으로 폭 점진 확장 방향과 조화)을 활용하여 광석이 배광구로 이동하도록 보조할 수 있어 막힘 위험이 감소합니다. 따라서 사다리꼴 지그 챔버는 운전 적응성이 더 강해 입도 범위가 넓은(예: 5-50mm) 광석 처리에 특히 적합합니다.
